我们为集成电路/半导体客户提供扩散、光刻、沉积、蚀刻、掺杂、清洗等工艺所需的各种特种气体。
蚀刻工业过程中需要电子气与被蚀刻物体发生化学反应。在晶圆制造的蚀刻过程中，需要使用电子专用气体去除蚀刻部分，以达到定向蚀刻的目的。
在半导体工业中，硅烷主要用于制造高纯多晶硅、二氧化硅薄膜、氮化硅薄膜、多晶硅隔离层等，也可用于制造太阳能电池、光纤和光电传感器等。
作为一种电子气，一氧化二氮主要用于半导体光电器件开发和生产的介电薄膜工艺中。它是不可替代的关键概念气体，直接影响光电器件的质量。
