我們為積體電路/半導體客戶提供擴散、光刻、沉積、蝕刻、摻雜、清洗等製程所需的各種特殊氣體。
蝕刻工業製程需要電子氣與被蝕刻物發生化學反應。在晶圓製造的蝕刻過程中，需要使用電子專用氣體去除蝕刻部分，以達到定向蝕刻的目的。
在半導體工業中，矽烷主要用於製造高純度多晶矽、二氧化矽薄膜、氮化矽薄膜、多晶矽隔離層等，也可用於製造太陽能電池、光纖及光電感測器等。
作為一種電子氣，一氧化二氮主要用於半導體光電元件開發和生產的介電薄膜製程。它是不可取代的關鍵概念氣體，直接影響光電器件的品質。
