三氟化氮的化學式為NF₃。常溫下為無色、無味、穩定的氣體。它是一種強氧化劑。高純度三氟化氮具有優異的蝕刻速率和選擇性，也是一種非常好的清潔劑。華中可為您提供高純度三氟化氮氣體，以改善您的半導體製程。