(1) మెగ్నీషియం సిలిసైడ్ పద్ధతి: హైడ్రోజన్‌లోని సిలికాన్ మరియు మెగ్నీషియం మిశ్రమ పొడిని దాదాపు 500°C వద్ద చర్య జరిపి, ఉత్పత్తి చేయబడిన మెగ్నీషియం సిలిసైడ్‌ను అమ్మోనియం క్లోరైడ్‌తో తక్కువ-ఉష్ణోగ్రత ద్రవ అమ్మోనియాలో చర్య జరిపి సిలేన్‌ని పొందడం. ద్రవ నత్రజనితో చల్లబడిన స్వేదనం ఉపకరణంలో దానిని శుద్ధి చేయడం వలన స్వచ్ఛమైన సిలేన్ లభిస్తుంది.
(2) విజాతీయ ప్రతిచర్య పద్ధతి: ట్రైక్లోరోసిలేన్‌ను పొందేందుకు 500°C కంటే ఎక్కువ వేడిచేసిన ద్రవీకృత బెడ్ ఫర్నేస్‌లో సిలికాన్ పౌడర్, సిలికాన్ టెట్రాక్లోరైడ్ మరియు హైడ్రోజన్‌లను రియాక్ట్ చేయండి. ట్రైక్లోరోసిలేన్ స్వేదనం ద్వారా వేరు చేయబడుతుంది. డైక్లోరోసిలేన్ ఉత్ప్రేరకం సమక్షంలో భిన్నమైన ప్రతిచర్య ద్వారా పొందబడుతుంది. పొందిన డైక్లోరోసిలేన్ అనేది సిలికాన్ టెట్రాక్లోరైడ్ మరియు ట్రైక్లోరోసిలేన్‌తో మిశ్రమం, కాబట్టి స్వేదనం తర్వాత స్వచ్ఛమైన డైక్లోరోసిలేన్ పొందవచ్చు. ట్రైక్లోరోసిలేన్ మరియు మోనోసిలేన్ డైక్లోరోసిలేన్ నుండి వైవిధ్య ప్రతిచర్య ఉత్ప్రేరకం ఉపయోగించి పొందబడతాయి. పొందిన మోనోసిలేన్ తక్కువ-ఉష్ణోగ్రత అధిక-పీడన స్వేదనం పరికరం ద్వారా శుద్ధి చేయబడుతుంది.
(3) హైడ్రోక్లోరిక్ ఆమ్లంతో సిలికాన్-మెగ్నీషియం మిశ్రమాన్ని చికిత్స చేయండి.
Mg2Si+4HCl—→2MgCl2+SiH4
(4) సిలికాన్-మెగ్నీషియం మిశ్రమం ద్రవ అమ్మోనియాలో అమ్మోనియం బ్రోమైడ్‌తో చర్య జరుపుతుంది.
(5) లిథియం అల్యూమినియం హైడ్రైడ్, లిథియం బోరోహైడ్రైడ్ మొదలైనవాటిని తగ్గించే ఏజెంట్లుగా ఉపయోగించడం, ఈథర్‌లో టెట్రాక్లోరోసిలేన్ లేదా ట్రైక్లోరోసిలేన్‌ను తగ్గించండి.