Andra specifikationer för förpackningar kan tillhandahållas enligt kundens krav
Fosfoan blandad gas
Renhet eller kvantitet | bärare | volym |
99,999 %/99,9999 % | cylinder | 47L |
Fosfoan blandad gas
Fosfin är en viktig dopningskälla av n-typ vid tillverkning av halvledarenheter. Det används också i kemisk ångavsättning av polykisel, epitaxiellt GaP-material, jonimplantationsprocess, MOCVD-process och beredning av passiveringsfilm av fosfosilikatglas (PSG).
Ansökningar
Halvledare
Solceller
LED
Maskintillverkning
Kemisk industri
Läkarvård
Mat
Vetenskaplig forskning