Indostria Semiconductor

Manome entona manokana isan-karazany ilaina amin'ny fizotran'ny diffusion, lithography, déposition, etching, doping, ary fanadiovana ho an'ny mpanjifa circuit/semiconductor mitambatra izahay.

Vokatra atolotra ho an'ny indostrianao

Nitrogen trifluoride

Ny fanehoan-kevitra simika eo amin'ny entona elektrôna sy ny zavatra hosokajiana dia ilaina amin'ny fizotran'ny indostrialy. Ao amin'ny dingan'ny etching amin'ny famokarana wafer dia ilaina ny mampiasa gazy manokana elektronika hanesorana ny ampahany voasokitra mba hahatratrarana ny tanjon'ny etching directional.

Silane

Ao amin'ny indostrian'ny semiconductor, ny silane dia ampiasaina indrindra amin'ny famokarana polysilicon madio, sarimihetsika dioksida silisiôma, sarimihetsika silisiôma nitride, sosona fitokana-monina polysilicon, sns.

Fangaro gasy

Amin'ny maha entona elektrônika, ny oksizenina nitrous dia ampiasaina indrindra amin'ny fizotry ny sarimihetsika manify dielectric ho an'ny fampandrosoana sy ny famokarana fitaovana optoelectronic semiconductor. Izy io dia gazy foto-kevitra fototra tsy azo soloina izay misy fiantraikany mivantana amin'ny kalitaon'ny fitaovana optoelektronika.