（１）マグネシウムシリサイド法：シリコンとマグネシウムの混合粉末を水素中約５００℃で反応させ、生成したマグネシウムシリサイドを低温液体アンモニア中で塩化アンモニウムと反応させてシランを得る。液体窒素で冷却した蒸留装置で精製すると、純粋なシランが得られます。
（２）不均一反応法：シリコン粉末、四塩化ケイ素、水素を５００℃以上に加熱した流動床炉中で反応させてトリクロロシランを得る。トリクロロシランは蒸留により分離されます。ジクロロシランは、触媒の存在下で不均一反応により得られます。得られるジクロロシランは四塩化ケイ素とトリクロロシランの混合物であるため、蒸留すると純粋なジクロロシランが得られます。トリクロロシランとモノシランは、不均一反応触媒を使用してジクロロシランから得られます。得られたモノシランは低温高圧蒸留装置により精製される。
（３）シリコン−マグネシウム合金を塩酸で処理する。
Mg2Si+4HCl—→2MgCl2+SiH4
(4) シリコンとマグネシウムの合金は、液体アンモニア中で臭化アンモニウムと反応します。
(5) 水素化アルミニウムリチウム、水素化ホウ素リチウム等を還元剤として用い、テトラクロロシランまたはトリクロロシランをエーテル中で還元する。