Altre specifiche di imballaggio possono essere fornite in base alle esigenze del cliente

Gas misto fosfoano

mescolare

Purezza o quantità vettore volume
99,999%/99,9999% cilindro 47 litri

Gas misto fosfoano

La fosfina è un'importante fonte di drogaggio di tipo n nella produzione di dispositivi a semiconduttore. Viene utilizzato anche nella deposizione chimica da vapore di polisilicio, nei materiali GaP epitassiali, nel processo di impianto ionico, nel processo MOCVD e nella preparazione del film di passivazione del vetro fosfosilicato (PSG).

Applicazioni

Semiconduttore
Solare Fotovoltaico
GUIDATO
Produzione di macchinari
Industria chimica
Trattamento medico
Cibo
Ricerca scientifica

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