صنعت نیمه هادی

ما به مشتریان مدار مجتمع/نیمه هادی گازهای مختلف مورد نیاز برای فرآیندهایی مانند انتشار، لیتوگرافی، رسوب، اچینگ، دوپینگ و تمیز کردن را ارائه می دهیم.

محصولات پیشنهادی برای صنعت شما

تری فلوراید نیتروژن

واکنش شیمیایی بین گاز الکترون و جسمی که قرار است حکاکی شود در فرآیند صنعتی اچ مورد نیاز است. در فرآیند اچینگ در ساخت ویفر، برای دستیابی به هدف حکاکی جهت دار، لازم است از گاز مخصوص الکترون برای حذف قسمت اچ شده استفاده شود.

سیلان

در صنعت نیمه هادی، سیلان عمدتاً برای ساخت پلی سیلیکون با خلوص بالا، فیلم دی اکسید سیلیکون، فیلم نیترید سیلیکون، لایه ایزوله پلی سیلیکون و غیره استفاده می شود و همچنین می تواند برای ساخت سلول های خورشیدی، فیبرهای نوری و سنسورهای فوتوالکتریک و غیره استفاده شود.

گاز مخلوط

به عنوان یک گاز الکترونی، اکسید نیتروژن عمدتاً در فرآیند لایه نازک دی الکتریک برای توسعه و تولید دستگاه های نوری نیمه هادی استفاده می شود. این یک گاز مفهومی کلیدی غیر قابل تعویض است که به طور مستقیم بر کیفیت دستگاه های الکترونیکی نوری تأثیر می گذارد.