Se pueden proporcionar otras especificaciones de embalaje según los requisitos del cliente.
Mezcla de gas fosfano
| Pureza o cantidad | transportador | volumen |
| 99,999%/99,9999% | cilindro | 47L |
Mezcla de gas fosfano
La fosfina es una importante fuente de dopaje de tipo n en la fabricación de dispositivos semiconductores. También se utiliza en la deposición química de vapor de polisilicio, materiales GaP epitaxiales, procesos de implantación de iones, procesos MOCVD y preparación de películas de pasivación de vidrio fosfosilicato (PSG).
Aplicaciones
Semiconductor
Solar Fotovoltaica
CONDUJO
Fabricación de maquinaria
Industria química
Tratamiento médico
Alimento
Investigación científica
